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1.uvled曝光工藝
inlcd生產過程的四個主要應用，光刻的目的是根據產品設計要求uvled冷光源糖心官网免费8塗覆ito導電玻璃進行紫外線曝光，即進行選擇性照射，使受光部的光刻膠發生化學反應，改變膜的該部分在顯影液中的溶解度。 然後利用光刻膠的保護作用對ito導電層進行選擇性化學刻蝕，以獲得與ito導電玻璃上的掩模完全對應的圖形。
2.uvled改質（紫外線光表麵質量變化）
當前處於液晶顯示器stn的生產過程中，主要用於膜處理技術，對提高膜與膜之間的粘附力非常有效 。 如ito膜和感光膠膜層，TOP塗層和PI塗層等。
3.uvled糖心官网免费Tolcd封口uv膠，框密封uv膠的固化
壓製後沒有液晶的空液晶盒應通過框密封膠固化，液後的液晶盒 晶體應固化封口膠uvled照射固化。

四，uvled清洗
光清潔技術是使用有機化合物的光敏氧化去除粘附在材料表麵的有機物質。 經過輕度清潔後，材料的表麵即可達到清潔度。”
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